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ニュースリリース

2008年6月30日
富士電機システムズ株式会社

国内初・2成分同時測定ができるガス分析計を開発
―直接挿入レーザ方式ガス分析計のシリーズ拡充について―

  富士電機システムズ株式会社(代表取締役社長:白倉三コ)は、煙道内の排ガス濃度を連続測定する「直接挿入レーザ方式ガス分析計」のシリーズを拡充し、国内初となる「塩化水素と水分」、「アンモニアと水分」の各2成分の同時測定を可能とした「2成分同時測定器」2機種を開発し6月から販売を開始しました。
  あわせて、鉄鋼分野などから要求される、高温・高ダストの条件下で高速応答が可能な直接挿入レーザ方式の「酸素測定器」も発売しました。

1.ガス分析計の用途
  工場やごみ処理場などでものを燃焼する際に発生する「塩化水素」や、発電プラントなどで排出される有害物質の排出を抑制するために使用する「アンモニア」は、法律で排出基準がもうけられており、ガス濃度の管理が必要です。これらの排ガスは一般的に水分を含んでいますが、法規制では乾燥ガス基準でガス濃度を測定することが定められています。

2.2成分同時測定器の特長
  「直接挿入レーザ方式ガス分析計」は、ガスが特定の波長光を吸収することを利用してガス濃度を計測していますが、光源として用いるダイオードレーザの波長可変域が限られているため、従来は塩化水素やアンモニアのそれぞれ1成分しか測定できませんでした。そのため、試料ガス中の平均水分濃度を固定値として用いて、水分を含んだガス濃度値を乾燥ガス基準濃度値に換算していました。しかし、プラントの運転状況により試料ガス中の水分濃度が大きく変化する場合には誤差が生じていました。
  今回、開発した「2成分同時測定器」は、レーザの波長走査と信号処理を最適化することで、「塩化水素と水分」、「アンモニアと水分」をそれぞれ同時測定することが可能となり、水分を含んだガス濃度値を乾燥ガス基準にリアルタイムに換算して測定できるため、より高精度な計測が可能となります。

3.価格
  希望小売価格: 700万円 (標準品 ・ 据付・調整サービスは除く)

4.販売計画
  2008年度 100セット

5.新商品の主な仕様
測定成分ガス HCℓ + H2O、NH3 + H2O、O2
測定成分数 同時2成分測定、または1成分測定
測定原理 波長非分散方式(※1)
測定範囲 光路長1mの時(※2)
塩化水素(HCℓ)+ 水分(H2O)
  :0-50ppm から 0-1000ppm HCℓ + 0-50% H2O
アンモニア(NH3) + 水分(H2O)
  :0-50ppm から 0-1000ppm NH3 + 0-50% H2O
酸素(O2
  :0-4vol% から 0-50vol%
設置方式 クロススタック方式(※3)
測定光路長 0.5〜10m
性能 繰返し性:±2.0%FS
直線性 ±3.0%FS
応答速度 1秒〜5秒(90%応答)
(当社製サンプリング方式の分析装置の応答時間は、装置入口から1〜4分)
測定出力 アナログ信号 DC4〜20mA
通信機能 RS-485

(用語説明)
  ※1 波長非分散方式/測定成分の特定の吸収波長に合致した半導体レーザなどからの単色光を排ガス流に照射し、その吸収量変化を測定し連続的に濃度を求める方式
  ※2 測定範囲(光路長1mにて)/測定範囲 10ppmの塩化水素では、測定光長1mの場合は10ppm、測定光路長2mの場合は測定範囲5ppmで測定可能。
  ※3 クロススタック方式/煙道の一方にレーザ発光部、反対側に受光部を取り付ける方式

【お客様問い合わせ先】
  富士電機システムズ株式会社 制御システム事業本部 PIA統括部計測機器営業部
      TEL:042-583-5413    FAX:042-584-9804


■参考:「直接挿入レーザ方式ガス分析計」の概要
直接挿入レーザ方式ガス分析計の概要図
  煙道やダクトに発光部と受光部を取り付け、特定のレーザ光を照射してガス濃度を測定します。従来のガスをサンプリングし、ダストや水分を除去する前処理を行い、分析装置内に吸引して分析する「試料吸引方式」に比べて、高速応答、吸着や腐食性のあるガスでも低濃度から測定が可能、メンテナンススフリー、保守費用の大幅削減などのメリットがあります

以  上




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