研究開発

研究開発テーマ

分析・解析技術

＃先端技術研究所　＃共通基盤・先端技術

分析・解析技術は、他の研究開発と緊密に連携することにより製品の性能や品質の向上を支えています。

世界最高水準の性能を有する電子デバイスなどの製品は、µmからnm、またはppbからpptという超微小領域や超微量を制御することによって実現されています。

原子で構成される結晶、薄膜、界面といった物質の内にある極微の世界を、精確に早くそしてリアルに捉えるために、社内で保有する分析装置に加え、世界最高性能の放射光施設他、最先端の分析装置も活用しています。

高度な解析やシミュレーションに取り組み、高精度の分析データをより直感的に理解しやすい情報にすることにより、研究開発のさまざまなステージにおけるインスピレーションの創出に寄与しています。

表面からは検知できない腐食部の内部構造を把握する

【表面】ステンレス鋼腐食部SEM像

【断面】腐食部の連続加工断面＋SEM像

( 動画 5秒 )

【3D像】異常個所を3D画像化 (オレンジ：空洞領域、ピンク：介在物空洞体積：7.5μｍ3)

( 動画 7秒 )

SiC半導体デバイスの異常部を原子レベルで解析する

最先端の分析設備で探る（大型放射光施設 SPring-8）

関連サイト