ガス分析計
熱伝導ガス分析計 ZAF
特長
H2、Ar、He、CH4、CO2のリアルタイム連続測定を実現する、軽量・コンパクトなガス測定器です。
分かりやすい操作表示ガイドを搭載し、専門知識がなくてもスムーズに使用可能。
省スペース設計のため設置場所を選ばず、研究開発から製造現場まで幅広いニーズに対応します。
用途
-
水素ガスを使用する研究設備
-
工業炉の還元雰囲気監視
-
半導体装置のH2ガス濃度測定
-
水素発生装置のH2ガス濃度測定
-
焼成炉のH2ガス濃度測定
-
ガス発生プラントのAr、He、CH4ガス濃度測定
-
超電導装置のHeガス濃度測定
-
空気分離プラントのArガス濃度測定
測定原理
熱伝導ガス分析計は、２成分ガスの異なる熱伝導率を利用してガス濃度を測定します。 検出器の内部には比較室と測定室があり各々内部に細い白金線が張られています。 比較室には比較（基準）ガスを封入します。 白金線は外部固定抵抗と組合せてブリッジ回路を形成し、各白金線には一定の電流を流し加熱します。 測定成分に濃度変化があると試料ガスの熱伝導率が変化し、測定室の白金線の温度に変化を与えます。 この温度変化を電気抵抗変化として取出し測定ガス濃度を算出します。
サンプリング系統図
主な仕様
お問い合わせ
カタログ請求・製品購入
価格、納期についてのお問い合わせやカタログ請求は当社営業または代理店にお問い合わせください。
技術相談窓口
温度調節計、圧力・差圧、レベル発信機、超音波流量計、電磁流量計、温度センサ、ガス分析計、マルチプルコントローラ（CPX）に関する技術的なご質問も、電話、メールでもお受けしております。
-
TEL
-
0120-128-220（フリーダイヤル）
-
受付時間
-
月～金曜日 9:00～12:00、13:00～17:00
（土曜、日曜、祝祭日および年末年始、弊社休業日を除く）
